西格瑪光機(jī)光學(xué)基準(zhǔn)件可以將具有高精度的反射波面或透過波面的平面光學(xué)基板，加工為客戶要求的形狀或尺寸，可以制造大為φ300mm的大口徑光學(xué)拋光產(chǎn)品。也可以進(jìn)行孔加工或長方形外形等的特殊加工。

特點(diǎn)：

●附有由干涉儀測量的反射波面，或透過波面的測量數(shù)據(jù)。

●根據(jù)精度要求和使用環(huán)境，可以從各種低膨脹材料（玻璃）中選擇基板材料。

●也可以在光學(xué)基準(zhǔn)上鍍膜。但是，根據(jù)鍍膜的種類的不同，有時(shí)也不能保證面型精度。

信息：

>>>另外備有以反射面精度為標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)樣板（HMPQP/HMPZP）。

>>>另外備有φ150mm以下的面型精度為λ/10的平面基板（OFPXP）。

注意：

1.拋光后蒸鍍薄膜時(shí)，有時(shí)不能保證面型精度。

2.根據(jù)材料的購買狀況和加工難度，制造時(shí)間有時(shí)會延長。請向營業(yè)部門確認(rèn)。

3.把光學(xué)基準(zhǔn)固定到支架時(shí)，如果使用螺紋擰緊固定，或使用硬化性粘接劑，光學(xué)基準(zhǔn)的面型精度有時(shí)會變差。

通用指標(biāo)：

大外徑　　　　　　　　　　φ300mm

適當(dāng)厚度　　　　　　　　　　50～38mm(約直徑的1/6～1/8為標(biāo)準(zhǔn))

有效直徑　　　　　　　　　　外徑的90%

材質(zhì)　　　　　　　　　　　　合成石英或各種低膨脹玻璃

面型精度　　　　　　　　　　λ/10(隨外徑，厚度而變化。)