西格瑪光機(jī)光學(xué)基板是用于反射鏡或分光鏡等，沒有蒸鍍薄膜的玻璃板（基板）。

這種基板可以用于制造標(biāo)準(zhǔn)品之外的技術(shù)指標(biāo)的反射鏡或分光鏡，可以在標(biāo)準(zhǔn)品的基板上特訂鍍膜。

總結(jié)來說，西格瑪光機(jī)光學(xué)基板作為反射鏡或分光鏡的基礎(chǔ)材料，其選擇和應(yīng)用依賴于具體的光學(xué)需求和技術(shù)指標(biāo)。

如何根據(jù)不同的光學(xué)需求和技術(shù)指標(biāo)選擇合適的西格瑪光機(jī)玻璃基板進(jìn)行特訂鍍膜？

以下是詳細(xì)的步驟和建議：

1.確定基材類型：首先，根據(jù)應(yīng)用需求選擇合適的基材。常見的基材包括光學(xué)玻璃、有色玻璃、平片、透鏡、棱鏡、藍(lán)寶石、石英、玻璃陶瓷、陶瓷以及紅外材料等。例如，用于封裝（IC）載板的玻璃基板應(yīng)選擇高硼硅或高鋁硅的低膨脹系數(shù)和高導(dǎo)熱的玻璃，并經(jīng)過鋼化處理。

2.考慮尺寸和形狀：基板的尺寸和形狀也需符合特定應(yīng)用的需求。例如，最大尺寸可達(dá)400 x 1,000 mm或Ø400 mm。

3.技術(shù)指標(biāo)匹配：根據(jù)應(yīng)用需求選擇相應(yīng)的技術(shù)指標(biāo)，如波長范圍、入射角、反射率、相位指標(biāo)等。例如，對(duì)于OLED用ITO導(dǎo)電膜玻璃，需要表面粗糙度小于1nm，方電阻小于10歐姆/□。

4.鍍膜類型選擇：根據(jù)不同的應(yīng)用需求選擇合適的鍍膜類型。例如，透明導(dǎo)電層（ITO）用于eMi保護(hù)，電阻±20%，透射率大于80%，低反射率<20%。此外，還有增透膜、濾光片、分束膜等多種鍍膜類型可供選擇。

5.環(huán)境適應(yīng)性：考慮實(shí)際應(yīng)用環(huán)境對(duì)鍍膜層的影響。例如，在風(fēng)沙較大的地區(qū)，鍍膜層容易受到損傷，因此需要選擇耐洗刷、耐磨、耐酸、耐中性鹽霧、耐熱循環(huán)等性能較好的玻璃。

6.定制化開發(fā)：如果標(biāo)準(zhǔn)品無法滿足特定需求，可以考慮在標(biāo)準(zhǔn)品基板上進(jìn)行特訂鍍膜。這需要與供應(yīng)商密切合作，確保鍍膜層與基板的良好結(jié)合，并通過專業(yè)測(cè)試方法檢測(cè)膜層附著力。

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