西格瑪光機(jī)真空用底座是一種用于真空環(huán)境中的底座，西格瑪光機(jī)提供了多種規(guī)格型號(hào)的真空用途底座，以適應(yīng)不同的應(yīng)用場(chǎng)景和設(shè)備需求。

規(guī)格型號(hào)

常見的有不同尺寸的底座，如小型、中型和大型，以匹配不同尺寸的真空腔和負(fù)載要求。其尺寸范圍通常從幾十毫米到幾百毫米不等，例如小型底座的邊長可能在 50mm 左右，而大型底座的邊長可達(dá) 300mm 以上。還有不同材質(zhì)的底座可供選擇，包括鋁合金、不銹鋼等。鋁合金底座具有質(zhì)量輕、導(dǎo)熱性好等優(yōu)點(diǎn)，適用于對(duì)重量和散熱有要求的場(chǎng)合；不銹鋼底座則具有更高的強(qiáng)度和耐腐蝕性，適用于高真空、強(qiáng)腐蝕等惡劣環(huán)境。

結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

低出氣量設(shè)計(jì)：在真空環(huán)境中，出氣量大會(huì)影響真空度的穩(wěn)定性和維持成本等。西格瑪光機(jī)真空用途底座采用特殊的材料和制造工藝，有效減少了出氣量，確保在真空腔內(nèi)使用時(shí)不會(huì)因底座自身出氣而破壞真空環(huán)境。

通氣孔或槽加工：其螺紋孔等部位都加工了通氣孔或槽，這一設(shè)計(jì)可以使氣體在真空環(huán)境下更順暢地流通，避免因局部氣壓不均而產(chǎn)生的問題，如影響真空度的快速建立、導(dǎo)致部件之間的吸附或受力不均等。

功能優(yōu)勢(shì)

靈活固定立柱支架：搭配真空用固定塊（VRC），能夠在任意位置固定真空用立柱支架，滿足不同實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)需求中對(duì)支架位置的精確調(diào)整和固定，方便在真空腔內(nèi)搭建各種結(jié)構(gòu)。

節(jié)省空間：立柱支架可互相接近，使得在有限的真空腔體內(nèi)能夠更合理地利用空間，布置更多的設(shè)備或部件，提高空間利用率。

應(yīng)用場(chǎng)景

光學(xué)實(shí)驗(yàn)與研究：在需要在真空環(huán)境中進(jìn)行的光學(xué)實(shí)驗(yàn)中，如高分辨率光譜分析、激光物理實(shí)驗(yàn)等，用于固定光學(xué)元件、反射鏡、透鏡等的支架，確保光路的穩(wěn)定和精確。

真空鍍膜設(shè)備：在真空鍍膜過程中，作為蒸發(fā)源、濺射靶材等的支撐底座，保證鍍膜材料在真空環(huán)境下能夠均勻地沉積在基底上，提高鍍膜質(zhì)量。

半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體芯片制造的光刻、蝕刻等工藝中，為光刻機(jī)的鏡頭、掩膜版等部件提供穩(wěn)定的支撐和精確定位，確保芯片制造的精度和質(zhì)量。

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